内容
- 定义-纳米光刻是什么意思？
- Microsoft Azure和Microsoft Cloud简介在本指南中，您将了解什么是云计算，以及Microsoft Azure如何帮助您从云迁移和运行业务。
- 技术百科解释了纳米光刻
定义-纳米光刻是什么意思？
纳米光刻技术是纳米技术的一个分支，是在微观水平上刻印，书写或蚀刻图案以创建难以置信的小结构的过程的名称。此过程通常用于创建更小，更快的电子设备，例如微型/纳米芯片和处理器。纳米光刻技术主要用于从电子到生物医学的各个技术领域。Microsoft Azure和Microsoft Cloud简介在本指南中，您将了解什么是云计算，以及Microsoft Azure如何帮助您从云迁移和运行业务。
技术百科解释了纳米光刻
纳米光刻是一个广义术语，用于描述在不同介质上创建纳米级图案的各种过程，其中最常见的是半导体材料硅。纳米平版印刷术的主要目的是缩小电子设备，这允许将更多的电子零件塞入较小的空间，即，较小的集成电路导致较小的设备，由于需要较少的材料，因此制造起来更快，更便宜。这也增加了性能和响应时间，因为电子只需要传播很短的距离即可。纳米光刻中使用的一些技术如下：
- X射线光刻-通过接近方法实现，并依赖于菲涅耳衍射中的近场X射线。已知将其光学分辨率扩展到15nm。
- 双重图案化（Double Patterning）—一种用于通过在同一层中已编辑图案的空间之间添加附加图案来提高光刻工艺的间距分辨率的方法。
- 电子束直接写入（EBDW）光刻-光刻中最常用的工艺，该工艺使用电子束创建图案。
- 极紫外（EUV）光刻-一种光学光刻的形式，利用13.5 nm的超短光波长。